IC光阻和有机浆料

用于集成电路通用型光刻胶,适配0.18um、90nm、65nm多种工艺制程形式和工艺节点。该系列光刻胶具有不同粘度的产品,同时具有感光速度快,分辨率高,满足不同刻蚀速率要求及工艺窗口大等优点,可广泛应用于国内外集成电路制造业企业。

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